機器利用講習会 「超微細光学素子を作る」 大阪府立産業技術総合研究所 フォトニクス開発支援センター （1日目）

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1 機器利用講習会 「超微細光学素子を作る」 大阪府立産業技術総合研究所 フォトニクス開発支援センター （1日目）
電子ビーム描画装置による回折格子のレジストパターン作製実習 大阪府立産業技術総合研究所 フォトニクス開発支援センター

2 本日の予定 簡単な電子ビーム描画装置及び本日行う作業の説明 石英基板にレジスト塗布およびEB装置に導入 お昼休み（真空引き待ち）
現像作業 作製した素子のSEM観察 ＊青字はクリーンルーム内で作業

3 電子ビーム描画装置 JBX-5000SI 電子線源 LaB6 加速電圧 25KV or 50KV 試料サイズ ホルダーによる
試料サイズ 　　　　　　ホルダーによる 最小ビーム径　　　 8nm つなぎ精度 　 60nm/40nm 重ね合わせ精度 nm/40nm 描画方式 　 ベクトルスキャン 日本電子株式会社製

4 本日作製する素子 基板：1インチ角（25mm×25mm）石英 レジスト：NEB－22A2
パターン：200nm&200nm line&space 200nm L&S 200周期 5mm 20μm 5μC/cm2 → 9μC/cm2 80μm

5 レジストの種類と選択 デジタル型レジスト アナログ型レジスト 名称 P/N 特徴 ZEP520 ポジ 高解像度、低感度、安定 ZEP7000
低解像度、高感度、安定 NEB22 ネガ 高解像度、高感度、不安定 アナログ型レジスト 名称 P/N 特徴 OEBR ポジ 低感度、安定、実績豊富 ZEP2000 やや高感度、安定、厚塗り可能

6 ポジ型レジストとネガ型レジスト 現像 EB 露光 ポジ ネガ 露光 EB 現像

7 実際のプロセス（基板洗浄済み） OAPおよび レジスト塗布 エスペーサ水洗 プリベーク PEB エスペーサ塗布および乾燥 現像 電子線描画
完成

8 微細加工フローチャート パターンの準備 レジストの選択 描画時間計算 必要ならばエスペーサー塗布 基板の洗浄 レジスト塗布 EB装置の調整
現像 必要ならばエッチング 性能評価

9 パターンファイル（j01ファイル）について 目的のパターンを所定のフォーマットで作成する必要があります。フォーマットにはいくつか種類がありますが、今回はテキスト形式でパターンを作成できるj01フォーマットを用います。作成したファイルは、EB装置が理解できる形に変換する必要があります。 今回用いるj01ファイル

10 パターンファイルの変換とは 作成したパターンファイルをEBが理解できる形式に変換する必要があります。時間があれば作業を行います。
j01、x01、GDSⅡパターンファイル convプログラム j51ファイル pchk6プログラム パターンチェック preadプログラム スキャナーデータ

11 ジョブデックファイル、スケジュールファイルとは
パターンを基板上のどの位置に描画するか等の情報を記述するものがjdf、sdfです。これらのファイルをコンパイルすることにより、最終的にマガジンファイル（実行）ファイルを作成します。 ジョブデックファイル cmplプログラム レイヤーファイル スケジュールファイル ＋ schdプログラム マガジンファイル

12 ステージ座標について (-30500, 30500) (30500, 30500) (0, 0) (-30500, -30500)
(30500, )