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各種磁気センサの動作原理と応用 ~講義内容~ ホール素子、MRセンサ、GMRセンサ、MIセンサ、FGセンサ等
①動作原理・理論 ②特性/特徴 ③用途 ④製造方法 ■スケジュール 第1回 7月26日 磁気の基礎・各センサの概要・センサー各論I 第2回 8月11日 センサー各論II 第3回 8月25日 応用商品と用途,製造方法の基礎 奈良工業高等専門学校 電気工学科 藤田直幸
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自己紹介 豊橋技術科学大学 電気電子工学課程修了 松下電器 電化本部(4年) 大阪府立高専 電子情報工学科(12年) 4月より現職
豊橋技術科学大学 電気電子工学課程修了 松下電器 電化本部(4年) 大阪府立高専 電子情報工学科(12年) 4月より現職 専門:磁気工学,表面処理,電気電子材料 テーマ:電気化学的手法(めっき)によるナノスケール磁性薄膜 の作製と応用 所属学会:電気学会(調査専門委員会委員),日本応用磁気学会 表面技術協会(評議員,関西支部常任幹事), The Electrochemical Society,電気鍍金研究会(理事), ソフト溶液プロセス研究会,ナノプレーティング研究会, ソノケミストリー研究会
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事前アンケート
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磁気の基礎
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磁気の基礎I 磁性材料の諸量 B-H曲線 ー磁束密度Bと磁界Hの関係 強磁性体の場合は,比例しない B=μ0H+I= μH ・μi:初透磁率
・μm:最大透磁率 ・Bs:飽和磁束密度 ・Br:残留磁束密度 ・Hc:保磁力 ・(BH)m:最大磁気エネルギー積 I-H曲線 ー磁化Iと磁界Hの関係 ・χ:磁化率 先端材料応用事典編集委員会,先端材料応用事典 (1990産業調査会)
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磁気の基礎II 物質の磁性の起源① 原子中の磁石
①電流が流れると磁界が発生する A L -e r i m ②原子: ・原子核の周りを電子(-e)が円運動している (軌道運動) → 等価的に図のような円電流が流れている ように見える. ・磁化mが図のような方向に表れる. (ここで,mは原子が作る最小単位の磁石と考える) ③上記の軌道運動以外に,電子の自転(スピン)に基づく運動でも 磁化が発生する. ④このような原子中の小さな磁石のことをスピン (軌道と自転をあわせて:軌道の運動よりスピンが 有効なことが多いため)と呼ぶ
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磁気の基礎II 物質の磁性の起源② スピンの配列I
結晶を作ると原子は,規則正しく並ぶため, スピンもある規則で整列する.(低温で) ①フェロ磁性(強磁性): 原子磁石(磁気モーメント)が結晶の中で すべて同じ向きに並んでいる。 ②アンチフェロ磁性(反強磁性): 結晶中の2種類の位置AとBにある原子磁石が、 平行だが逆向きに並んでいる場合。 全体として、打ち消し合って磁気(自発磁化)を持たない。 フェロ アンチフェロ
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磁気の基礎II 物質の磁性の起源③ スピンの配列II
③フェリ: アンチフェロの一種であるが、A,B両格子の磁気モーメント が等しくないため、差が外に現れる。 ④パラ磁性(常磁性): 原子磁石が勝手な方を向いていて規則配列の無いもの。 (あらゆる強磁性体は、ある温度(キュリー温度) 以上では、パラになる。) 全温度で、パラのものを常磁性体という。 フェリ パラ
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磁気の基礎III 磁性体の分類 強磁性体を応用面から分類 保磁力の大きさによって ・軟磁性材料(ソフト):変圧器,コイル,信号処理
・硬磁性材料(ハード):磁石 磁気記録材料 ハードほどではないが十分な保磁力 強磁性体を応用面から分類
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磁気の基礎IV 反磁界 I H Hd 図のような磁石がある. 磁石の端には,N(図中+)とS(図中-)の磁極ができる.
- I + - + H - Hd + - + 図のような磁石がある. 磁石の端には,N(図中+)とS(図中-)の磁極ができる. 磁石の外では,磁界は,図のHのような方向にできている. しかし,磁石の中では,Hとは逆向きのHdの向きに磁界ができている. このHdの向きは,磁気モーメントI (磁石の強さを表す物理量)の 向きと逆向きであるので,反磁界(自己減磁界)と呼ばれる. 反磁界の大きさは,Iに比例する(磁石が強くなると反磁界も強くなる) すなわち, μ0Hd=-NI の関係がある.ここで,Nを反磁界係数と呼ぶ. (μ0は,単位あわせのために必要)
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磁気の基礎IV 反磁界の例 ①Feの球 Hd=5.7×105A/m 球の場合,実質的にFeを 磁化するのに役立つ磁界は,
(約29%) Hex=10 kOe(8×105A/m) ②薄い板:厚さ方向には大きな反磁界が働き, 磁化しにくい.板の面方向は磁化しやすい.
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磁気の基礎V 磁気異方性① 結晶磁気異方性 Fe単結晶の例
結晶の中では,特定の方向は磁化されやすく,別の方向は磁化されにくい.このように,方向によって磁気特性が変化することを磁気異方性と言う. 容易軸方向:磁化されやすい方向 困難軸方向:磁化されにくい方向
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磁気の基礎V 磁気異方性② 誘導磁気異方性 何らかの操作によって,異方性の方向や大きさを制御する 例 (a)磁界中冷却効果
物質を一旦高温にして,冷却中に磁界を加えると, その磁界方向に容易軸を持つ磁気異方性が 形成されることがある. (b)圧延磁気異方性 ある種の多結晶を冷間圧延すると圧延によって, 結晶方位がそろい,異方性が誘導される.
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磁気の基礎VI 磁区① 磁区とは 磁区とは: 飽和まで磁化していない強磁性体内には,
自発磁化の方向が異なる,いくつかの領域(磁区)が形成されている. 磁極が現れると: 静磁エネルギーが増加する 静磁エネルギー最小にすると: 交換エネルギーが増加する. スピンが角度をなすと エネルギーが生じる
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磁気の基礎VI 磁区② 磁区の例 珪素鉄 (001) パーマロイ (110) Si-Fe (001)
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磁気の基礎VI 磁区③ いろいろな磁区 磁気異方性の大きい 一軸晶円板 磁気異方性の大きい 立方晶円板 磁歪の大きい磁性体
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磁気の基礎VI 磁区④ 磁壁 磁区と磁区の境界では, スピンは一方の磁区の磁化方向から,他方の磁化方向へと 徐々に向きを変えている.
このスピンの遷移層を磁壁と呼ぶ.
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磁気の基礎VI 磁区⑤ 磁壁の移動 磁界をかけると磁界方向の磁区の 面積が増える. →磁壁が移動する.
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磁気の基礎VII 磁化過程① 単結晶の場合 Si-Fe (001) H//[100] H//[110]
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磁気の基礎VII 磁化過程② 単結晶の磁化曲線
1/√2=0.71
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磁気の基礎VII 磁化過程③ 多結晶の磁化曲線の例
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磁気センサの種類と概要
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測定対象によって選ばれるセンサが異なる.
磁気センサの動作領域 測定対象によって選ばれるセンサが異なる. → 高周波,微弱磁界の検出へ
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磁気センサの特徴比較 磁気センサの特徴比較 (「21世紀版薄膜作製応用ハンドブック」P1063)
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センサデバイスの薄膜化の流れ エレクトロニクス関連製品の小型化・軽量化・高性能化 → センサデバイスの小型化 ← 薄膜化技術 ・成膜技術
→ センサデバイスの小型化 ← 薄膜化技術 ・成膜技術 ・マイクロパターンニング ・ICとの結合による信号処理技術 ・パッケージ技術(小型,高信頼) 薄膜化のもう一つの利点 → ナノ構造磁性体 高機能化,新機能の発現
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磁気センサの各論I 磁気抵抗(MR)センサ
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電流磁気効果 Ep B I Er Eh 物質に電流Iを流しておき,時速磁束Bを加えると
電流と磁気の相互作用(ローレンツ力)によって,電圧が誘起される. ■BとIと同一平面で観測される電圧 ・電流に水平な成分 Er:縦電流磁気起電力効果(角野) → 磁気抵抗効果 ・電流に垂直な成分 Ep:横電流磁気起電力効果(角野) → プレーナーホール効果 ■BとIに垂直に観測される電圧 ・Eh:ホール電圧 → ホール効果 Ep B I Er Eh
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磁性体中の電流磁気効果 電子は,スピンをもっているので,磁性体中では,磁化の効果が加わる 非磁性体にも現れる 磁性体にのみ現れる
非磁性体にも現れる 磁性体にのみ現れる 正常磁気抵抗効果 異常磁気抵抗効果 強制磁気抵抗効果 異方性磁気抵抗効果◎ (正常)ホール効果◎ 異常ホール効果 (プレーナーホール効果は,磁気抵抗効果と垂直な方向で 観測した同じ現象である) 「磁気工学ハンドブック」1.5章(角野)を参考に整理した
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磁気抵抗効果(別の分類方法) 磁気抵抗効果の分類 正常磁気抵抗効果 異常磁気抵抗効果 ・異方性磁気抵抗効果(AMR)
正常磁気抵抗効果 異常磁気抵抗効果 ・異方性磁気抵抗効果(AMR) ・巨大磁気抵抗効果(GMR) ・トンネル型磁気抵抗効果(TMR) ・超巨大(コロッサル)磁気抵抗効果(CMR)
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磁気抵抗センサ① 現象=異方性磁気抵抗効果
磁気抵抗センサ① 現象=異方性磁気抵抗効果 M H θ I 磁化容易軸: 磁界をかけないときMはこの方向を向いている Hを大きくしていくとMの向きが変化する MとIのなす角をθとすると,以下の関係がある. ρ:抵抗率 ρ0:外部磁界の無いときの抵抗率 Δρm:最大抵抗率の変化 そのため,Hの大きさによって,抵抗率が変化することとなる.
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磁気抵抗センサ② 原理 ①磁界を強くする ↓ ②スピンの向きが変化 ③電子の散乱(衝突の) 度合いが変化 ④抵抗値が変化
磁気抵抗センサ② 原理 ①磁界を強くする ↓ ②スピンの向きが変化 ③電子の散乱(衝突の) 度合いが変化 ④抵抗値が変化 電流に水平にHをかけた 電流に垂直にHをかけた ※散乱は(b)の方が小さい. 伝導電子のスピンを考慮した2電流モデル (a)H=0 (b)H≠0 H
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磁気抵抗センサ③ 使われる材料 82Ni-Fe合金薄膜 →抵抗は小さな磁界 で飽和する. Δρ=0.6μΩ・cm
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磁気抵抗センサ④ 特徴・用途 ・感度 1%/Oe → 比較的良い感度 ・広帯域,安定性に優れる ・構造がシンプルで安価
磁気抵抗センサ④ 特徴・用途 ・感度 1%/Oe → 比較的良い感度 ・広帯域,安定性に優れる ・構造がシンプルで安価 ・再生ヘッドとしてHDDの高密度化に役立った. (←誘導型薄膜ヘッド) ・磁気記録のトラック幅の減少:MRセンサの膜厚を薄くする必要 →電子散乱が起こり,性能に限界 →GMRヘッドに置き換え ・その他の磁気応用センサの分野もGMRヘッドが使われつつある.
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磁気センサの各論II 巨大磁気抵抗(GMR)センサ
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GMRセンサ① 開発の歴史 ・1988年 Fe/Cr金属多層膜におけるGMR効果(巨大磁気抵抗効果)
の発見:45%抵抗変化 20kOe,4.2K 〔磁性薄膜間に磁気的な結合がある〕 ・1989年 Fe-Ni/Cu/Co多層膜 8%の抵抗変化 1kOe以下,室温 〔磁性薄膜間に磁気的な結合がない〕 ・1991年 スピンバルブ膜の開発 ・グラニュラ合金でのGMRの発見
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GMRセンサ② GMR薄膜の構造(カップリングがある場合)
例) (Fe3.0nm/Cr0.9nm)×60層 磁性層 非磁性層 (薄い) H>0 H=0 非磁性層の厚さを適切に選ぶ ↓ 磁性層同士が漏れ磁界により磁気的にカップリングする. 反平行にスピンが並ぶ
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GMRセンサ③ GMR薄膜の構造(カップリングが無い場合)
例) (Cu5.0nm/Co3.0nm/Cu5.0nm/Ni-Fe3.0nm)×15層 Ni-Fe(軟磁性) Cu Co Cu 平行 反平行 Hが小さいと Ni-Feだけが磁界方向に向く Hが大きいと Coのスピンも磁界方向に向く
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GMRセンサ④ GMR効果の原理 H=0 ↑の電子 ↓の電子 H=Hsat ■2電流モデル: ①スピンの向きが違う2種類の伝導
電子が,電気抵抗に関係している. ②伝導電子のスピンと磁性層のスピン の向きが同じなら散乱しにくい. 逆向きなら散乱しやすい. ③散乱しやすい場合の抵抗R, 散乱しにくい場合の抵抗rとすると r<<Rとなる. ④等価回路から,H=0の場合は, 合成抵抗は(r+R)/2≒R/2 H=Hsatの場合は,2rR/(r+R) ≒2r ⑤磁界をかけた時(平行状態) の方が,抵抗が小さい. H=0 ↑の電子 r R R r ↓の電子 r r H=Hsat R R
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GMRセンサ⑤ GMRの特性 ■非結合型GMR膜 ■結合型GMR膜 Co/Cu多層膜では,室温で65%の抵抗変化 ・小さな磁界で抵抗が変化
・大きな印加磁界が必要(10~20kOe) ・非磁性層の厚さを厳密に制御しないと 反平衡状態にならない. ・抵抗の変化値は小さい ・ヒステリシス特性が現われる
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GMRセンサ⑥ スピンバルブ膜 交換バイアス:反磁性層の影響で,等価的に磁界ができる Fe-Mn (反強磁性層) Fe-Ni(ピン層)
Cu(非磁性層) Fe-Ni(フリー層) H 小さな磁界で大きなMR効果 HDD用ヘッドとして実用 Fe-Mn7nm/Ni-Fe4nm/Cu2.2nm/Ni-Fe6.2nm
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GMRセンサ⑦ グラニュラ膜 H 平行 単一磁区強磁性微粒子が非磁性金属微粒子中に分散
(Co-Cu,Co-Ag,NiFe-Ag) 磁性微粒子濃度:15~30%(体積比) ・磁界を加える前 平均的には反平行状態 ・磁界を加えることで,平行状態になる 簡単に作れる 磁気抵抗の変化のために大きな磁界が必要
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