核断熱消磁冷凍機 世界有数の最低温度と保持時間をもち、サイズもコンパクト。主に2次元3Heの比熱およびNMR測定に使用中。 核断熱消磁冷凍機 最低温度： 51 mK 保持時間： 2 weeks（≤ 200 mK） 希釈冷凍機部 無負荷時最低温度： 8 mK 冷却力： 400 mW@100 mK 超伝導マグネット部 最大磁場： 9 T 比熱測定用試料セル 温度範囲： 0.1 ≤ T ≤ 80 mK 印加磁場： ≤ 1 T NMR測定用試料セル 温度範囲： 60 mK ≤ T ≤ 1.5 K 印加磁場： ≤ 0.2 T
無冷媒希釈冷凍機 液体ヘリウム浴槽を使用せず、パルス管冷凍機で4 Kを発生して運転する新型の希釈冷凍機。国内導入第１号機。 低温真空槽がないので、実験空間が広く、室温からの光学的・機械的アクセスが容易。ボタンを押すだけで１日半後に12 mKの極低温度が実現。 量子液体・固体、低温電子物性など広い用途に使用予定。 Oxford Instruments社製DR200型（旧VeriCold社製） 最低温度： 12 mK 冷却力： 200 mW@100 mK 冷却時間： 35 h（室温から最低温度まで) 全自動運転
超低温・走査トンネル顕微鏡（ULT-STM） Floor level Precooling chamber STM chamber Superconducting magnet rf-shielded box Air spring/damper 3He-4He dilution refrigerator (DR) He flow Sample transfer DR elevation system Sample/tip preparation and characterization UHV chamber 希釈冷凍機温度で作動し、試料表面を処理・評価できる超高真空チャンバーを有する世界で唯一のSTM装置。 主にグラフェン、異方的超伝導、超薄膜超伝導の走査トンネル分光（STS）測定に使用中。 試料表面処理・評価 アルゴンイオンスパッタ 試料加熱： 1500℃ (抵抗加熱), 800℃ (間接加熱) 電子ビーム蒸着装置 低速電子線回折装置（LEED） 低温劈開機構 試料予冷温度： 7 K STM/STS部 動作温度： 30 mK ≤ T ≤ 300 K 最大磁場： 6 T（13 Tに改造中） 超高真空環境： ≤ 1×10-8 Pa 磁場掃引中で原子分解能有
複合走査プローブ（ULT-STM/AFM/TR） 超低温複合走査プローブ 同一試料に対して ・走査トンネル顕微鏡 (STM) ・原子間力顕微鏡 (AFM) ・電子輸送特性 (TR) の３種類の計測を行うことができる最新鋭の複合走査プロープの心臓部。超低温 (≥ 300 mK)・高磁場 (≤ 13 T)・超高真空 (≤ 11×10-8 Pa)の複合極限環境下で動作するシステムに組み込み予定。 室温大気中STM装置 第一世代のULT-STMに使われていたSTMヘッド。現在は室温大気中での予備実験に使用。
表面微細加工装置 マスクアライナー デジタル光学顕微鏡 スピンコーター 簡易クリーンブース ミカサ社製MA-20型 (フォトリソグラフィー用) デジタル光学顕微鏡 キーエンス社製 VN-2450型 (3000倍) 右隣はニコン社製実体顕微鏡 スピンコーター ミカサ社製MS-A100型 簡易クリーンブース Class 2000
製膜装置 ３ゾーン電気炉 超高真空蒸着装置 真空度： ≤ 1×10-4 Pa 真空度： ≤ 1×10-6 Pa 最高温度： 1500℃ 電子ビーム蒸着源 ×２ 抵抗加熱蒸着源 ×２ ３ゾーン電気炉 真空度： ≤ 1×10-4 Pa 最高温度： 1500℃ 均熱帯長さ： 40 cm