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マイクロ光造形法に 関する研究 電子システム工学専攻2年 稲葉研究室 山之腰 卓
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研究概要 目的 実験内容 光造形法による 3次元マイクロマシン製作 He-Cd紫外線レーザを用いた実験半導体レーザを用いた実験
目的 実験内容 光造形法による 3次元マイクロマシン製作 He-Cd紫外線レーザを用いた実験半導体レーザを用いた実験 近赤外パルスレーザを用いた実験 パルス幅及びレーザ周波数、レーザスポット掃引速度に対する加工分解能の測定試験
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実験方法 光硬化樹脂 スポット移動 レーザ x、z軸 駆動ステージ コントローラ 光造形装置概略図
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実際の構造物 半導体レーザ 紫外線レーザ 近赤外レーザ 実験で製作した構造物
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実験1 He-Cd紫外線レーザによる実験 直線幅の照射時間依存性
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実験2 半導体パルスレーザによる実験 硬化幅の周波数依存性
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実験3 近赤外パルスレーザによる実験 近赤外パルスレーザを用いて製作した直線硬化物
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結論 紫外線による光造形法によって2次元の加工分解能8.6[µm ]が確認できた
加工分解能が高い三次元構造物を製作するためには、焦点のみを硬化させなければならない 近赤外パルスレーザを用いて太さ9.7 [µm ]の直線の硬化物の製作ができた
![結論 紫外線による光造形法によって2次元の加工分解能8.6[µm ]が確認できた](http://slidesplayer.net/slide/15980000/88/images/8/%E7%B5%90%E8%AB%96+%E7%B4%AB%E5%A4%96%E7%B7%9A%E3%81%AB%E3%82%88%E3%82%8B%E5%85%89%E9%80%A0%E5%BD%A2%E6%B3%95%E3%81%AB%E3%82%88%E3%81%A3%E3%81%A62%E6%AC%A1%E5%85%83%E3%81%AE%E5%8A%A0%E5%B7%A5%E5%88%86%E8%A7%A3%E8%83%BD8.6%5B%C2%B5m+%5D%E3%81%8C%E7%A2%BA%E8%AA%8D%E3%81%A7%E3%81%8D%E3%81%9F.jpg "加工分解能が高い三次元構造物を製作するためには、焦点のみを硬化させなければならない. 近赤外パルスレーザを用いて太さ9.7 [µm ]の直線の硬化物の製作ができた.")
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課題 微細な3次元構造物の製作にはｴﾈﾙｷﾞｰの高い光を短時間照射する事が必要である 2光子吸収による光造形法
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