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半導体の歴史的経緯 1833年 ファラデー AgSの負の抵抗温度係数の発見

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Presentation on theme: "半導体の歴史的経緯 1833年 ファラデー AgSの負の抵抗温度係数の発見"— Presentation transcript:

1 半導体の歴史的経緯 1833年 ファラデー AgSの負の抵抗温度係数の発見
1874年 ブラウン                  PbSと金属との点接触でV-I特性の非直線性を発見 1874年 シュスタ                 CuOとCuの接触で非オーミック性を発見 1920年 グロンダール                     亜酸化銅整流器を試作

2 半導体の歴史的経緯 1926年 プレッサ Se整流器を発表 1926年 シュレディンガー 波動方程式の確立
1926年 シュレディンガー                  波動方程式の確立 1928年 ブロッホ                 固体のバンド理論 1932年 ウィルソン                     金属ー半導体接触整流理論

3 半導体の歴史的経緯 1939年~1942年 モットー、ショットキー、ベーテ 理論解析 1947年 バーディン 表面準位の導入
1939年~1942年               モットー、ショットキー、ベーテ 理論解析 1947年 バーディン                  表面準位の導入 1948年 バーディン、ブラッティン                 点接触トランジスタの発見 1949年 ショックレー                     pーn接合理論発表

4 半導体の歴史的経緯 1950年 ショックレー 接合形トランジスタの試作 1957年 江崎 トンネルダイオードを発表
1950年  ショックレー            接合形トランジスタの試作 1957年 江崎                  トンネルダイオードを発表 1962年 レディカ                 GaAsレーザダイオードの試作 1970年 BTL                     CCDの試作

5 第一章半導体とその種類 1.1導体・半導体および絶縁体
抵抗率  ρ(Ω・m)                    R= ρ・L/S                  抵抗率の温度依存性                  導体 正の温度係数             半導体 負の温度係数   エネルギーバンド構造                 導体~伝導帯に電子あり           絶縁体~伝導帯に電子なし         半導体~伝導帯に電子なし(低温)                                     

6 1.2半導体材料 元素半導体 Ge, Si のようにⅣ族の単一元素からなる半導体 物理的な性質は定められている。
化合物半導体                 GaAs, InPのようにⅢ-Ⅴ族、Ⅱ-Ⅵ族の化合物からなる半導体           物理的な性質は組み合わせによって異なる。                                     

7 1.3半導体結晶 原子構造 ラザフォードの原子モデル 原子 原子核(陽子、中性子) 電子:物質の電気的特性を決定
原子構造                    ラザフォードの原子モデル                     原子                       原子核(陽子、中性子)           電子:物質の電気的特性を決定 電子層                         電子軌道 主量子数nにおける電子数               n=1( 2個)  n=2 (8個) n=3 (18個)             最外殻の電子:価電子(valence electron)                                     

8 Ⅳ族元素の電子配置                    四個の電子が価電子                     価電子は八個で安定                       共有結合(covalent bond)           電子:物質の電気的特性                                   

9 1.4真性半導体 (intrinsic semiconductor)
外部エネルギー→半導体 価電子は原子からの束縛力を振り切る →自由電子(free electron) →外部電界によって移動 抜け殻~正孔(hole) 正の電荷、質量 電子伝導と正孔伝導は逆向き 真性半導体では電子密度=正孔密度

10 1.5不純物半導体 (impurity semiconductor)
Ⅴ族不純物添加                  Sbの5個の価電子              →4個はSiと共有結合            →1個はSbと弱く結合            →常温でも容易に自由電子            →Sbは正イオンになる              不純物をドナー(donor)と呼ぶ          n形半導体(電子伝導が主)

11 Ⅲ族不純物添加                  Gaの3個の価電子              →3個はSiと共有結合            →不足分の1個はSiから調達            →正孔が生ずる               →Gaは負イオンになる              不純物をアクセプタ(acceptor)と呼ぶ           p形半導体(正孔伝導が主) ドナーとアクセプタが共存する場合       電子密度=正孔密度 補償形半導体

12 多数キャリヤ(majority carrier)       n形半導体では電子              p形半導体では正孔
少数キャリヤ(minority carrier)       n形半導体では正孔              p形半導体では電子

13 演習問題 直径8mm、長さ15mmの円柱状の真性半導体の両端に5Vの電圧を加えた。流れる電流を求めよ。 但し、抵抗率は20Ω・cmとする。


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