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モスハイジ成形品について
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CMP(Chemical Mechanical Polishing：化学機械研磨)
半導体製造でＣＭＰ廃水が発生します 研磨スラリー カッター 単結晶 シリコンウェーハ 表面研磨 ＣＭＰ廃水（ｼﾘｶ超微粒子）が発生する CMP(Chemical Mechanical Polishing：化学機械研磨)
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CMP廃水処理システム モスハイジ法 従来法 モスハイジによるＣＭＰ廃水処理 高分子凝集剤によるＣＭＰ廃水処理
ＣＭＰ廃水（ｼﾘｶ超微粒子） ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● ＣＭＰ廃水（ｼﾘｶ超微粒子） ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● 高強度モスハイジ成形品 高分子凝集剤 ろ過材 ↓ ↓ ↓ ↓ ↓ ↓ ↓ ↓ ↓ ↓ ↓ ↓ ↓ ↓ ↓ ↓ ろ過水・多い ろ過水・ 少ない 超微粒子はフロック化し容易に除去、ろ過水のリサイクルが可能。 超微粒子は凝集しにくく、ろ過材の細孔に詰まり、ろ過が難しい。
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モスハイジの微粒子凝集性能 モスハイジ 吸着 自己凝集 ＣＭＰ廃水（ｼﾘｶ超微粒子） ● ● ● ● ● ● ● ● ● ●
モスハイジの微粒子凝集性能 ＣＭＰ廃水（ｼﾘｶ超微粒子） ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● モスハイジ 吸着 自己凝集
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高強度モスハイジ成形品による カオリンコロイド分散廃水の凝集沈殿効果
モスハイジ処理後 （カオリンコロイド分散廃水） 処理前 （カオリンコロイド分散廃水） 注）カオリン： シリカ主成分の超微粒子粘土鉱物で水中でコロイド分散する。
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