（株）ナノオプトニクス・エナジー 高橋啓介 2/13 ＠（株）ナガセ インテグレックス

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1 （株）ナノオプトニクス・エナジー 高橋啓介 2/13 ＠（株）ナガセ インテグレックス
研磨進捗報告　 （株）ナノオプトニクス・エナジー 高橋啓介 2/13 ＠（株）ナガセ　インテグレックス

2 カレンダー 1/25 ～ 1/26 内周セグメントの研磨開始 1/27 CGH測定、再現性テスト（by 木野氏）
1/25　～　1/26　内周セグメントの研磨開始 1/27 CGH測定、再現性テスト（by 木野氏） 1/28 補正研磨（Φ120）、ワーク変形調査 1/29 研磨軸改造（スライド部分、モーター交換） 1/30　～　2/5　補正研磨

3 outline ・モーターへの負荷変化：摩擦の影響 ・大きなパッド（Φ１２０）の効能 ・グローバルな形状の変化 ・ワーク支持
・ローカル誤差の補正

4 モーターへの負荷変化 ・新しいモーター：負荷が許容値を超えると過電流となり停止 電流計を設置 → モーターにかかる負荷を測定
　電流計を設置　→　モーターにかかる負荷を測定 パッド-ワーク間のスラリー減少が原因？ ・端研磨から折り返す際に負荷大 スラリー層 ギア比を大きなものに変更して対応する予定

5 大きな硬いパッドの効能 ・1/25～1/27 にセグメント全面研磨（ラスター）を行った
パッド径：Φ120, パッド材：酸化セリウム入りウレタン 錘：　1.8kg, スラリー：1um 酸化セリウム 回転数：50～90　rpm 総加工時間：～23h ・研磨効率が良い 　→前回より早く測定できた 　　　（前回は58h） ・端の研磨不足が目立たない うろこ　前回100nm 、今回20 nm ・小さな凹凸を除去できる？ 　→鱗模様ほぼなし ・モーターの負荷大

6 パッドのはみ出しによる圧力変化 ・端の研磨不足が目立たない理由？ h Φ hに対する圧力変化 rp
・パッドのはみ出し量と圧力変化の関係を求めた ・Φ120でのはみ出し量50mm →圧力は1.6倍強 ・端の研磨不足が目立たない理由？

7 研磨による轍 ・ラスタースキャンのピッチに対応した轍（10mm幅） ・パスごとにZをずらして対応していた
・最終仕上げ時に高速で轍をなくすパスを入れる

8 ワーク支持:４ｋｇの錘による形状変化 数百nmの形状変化あり。 ワークと台の間に隙間が？ 100nm程度の変化が錘を外しても残る
実施順 数百nmの形状変化あり。　ワークと台の間に隙間が？ 100nm程度の変化が錘を外しても残る 次回、もぐらに乗せて研磨を行う

9 →グローバルな形状を無視し、ローカルな形状誤差のみ補正対象に
グローバルな形状変化 測定結果 予想値 研磨前後で全体としての凹凸形状の変化 →グローバルな形状を無視し、ローカルな形状誤差のみ補正対象に パッド軌跡は変更せず（研磨痕を避けるための変化はあり） 移動速度（滞在時間）を変化させて補正

10 ローカル誤差の補正結果 全体形状－グローバル形状 ・Φ60：短波長な誤差を狙い打てる ・Φ120：端の研磨不足が出にくい
Φ120、70rpm、全体補正 Φ60、320rpm、全体補正 Φ120、236rpm、短波補正 Φ120、70rpm、短波補正 モーター交換 中央部のみの補正 全体形状－グローバル形状 ・Φ60：短波長な誤差を狙い打てる　・Φ120：端の研磨不足が出にくい

11 今回の最終形状 initial final 面精度：2um 面粗さ p-v 20nm rms 2.5nm
モータートラブル 　　　　＋ 人為的ミス 面粗さ p-v 20nm rms 2.5nm ローカルな誤差 ：減少させることに成功 グローバルな誤差：もぐらの上で補正

12 まとめ 内周用セグメントに対して、補正研磨を行った 全体：大きな誤差残 局所：誤差減少に成功 モータートラブルへの対応
全体：大きな誤差残　 局所：誤差減少に成功 モータートラブルへの対応 ギア比を上げて対応、回転が止まらないように 今後の方針： １：小さなパッド（Φ60 or Φ30）を用いて局所的な形状補正 ２：大きなパッドで全体形状を補正