Nd:YAG レーザー を 用いた シリコンマイクロストリップ 型検出器の性能 評価 1. アトラスシリコンマイクロストリップ型検出器の 概要 2. レーザー使用による追加検査項目 3. 測定原理および測定装置構成 4. レーザーを用いたストリップ検査システム構築の 方針 5. 現在の進行状況 6.

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Nd:YAG レーザー を 用いた シリコンマイクロストリップ 型検出器の性能 評価 1. アトラスシリコンマイクロストリップ型検出器の 概要 2. レーザー使用による追加検査項目 3. 測定原理および測定装置構成 4. レーザーを用いたストリップ検査システム構築の 方針 5. 現在の進行状況 6. まとめと今後の予定 筑波,岡山 A ,京都教育 B ,高エ研 C ,広島 D 皆川真実子,原和彦,千石大樹,新間秀一,加藤陽一,恵本健亮,中野 逸夫 A ,田中礼三郎 A ,池田篤 A ,伊藤彰洋 A ,小林健一 A ,留田洋二 A , 栗田峯生 A ,宮本能義 A ,森中哲志 A ,高嶋隆一 B ,海野義信 C ,高力孝 C , 近藤敬比古 C , 寺田進 C ,池上陽一 C ,氏家宣彦 C ,岩田洋世 D ,大杉節 D ( アトラスシリコン I )

2 シリコンマイクロストリップ 型検出 器 検出器の概略 SCT-BM-FDR-1 ~ 12cm ~ 6cm

3 レーザーを用いた追加検査項目 従来の検査項目 電気的性能検査 平面度位置測定 長期安定性 温度サイクル レーザーを用いた追加検査項目 ストリップ自身の性能検査 全てのストリップに対する導通・応答性検査 センサー応答の位置依存性の評価も可能 (例:周辺部、ストリップに沿った方向 の一様性) ・ IV 特性 ・ デジタルテスト ・ 暗電流長期安定性 ・ ストローブディレイの決定 ・ スレッショルド電圧の オフセットレベルでのトリミン グ ・ プレアンプ増幅率とノイズの評価 ・ ノイズ占有率による安定性の評価 ・ タイムウォークの評価 ・ バッドチャンネルの数の評価 New!

4 シリコン検出器とレーザー Nd:YAG レーザー 1064nm=1.16eV シリコンのエネルギーギャップ =1.12eV この測定で用いたレーザーは、 Nd ネオジウムをドープ した YAG (イットリウム、アルミニウム、ガーネッ ト)結晶を共振キャビティとした固体レーザーである。 Nd 3+ イオンが励起・遷位することで 1064nm の発振が 得られる。 殆どのレーザーはシリコンを通過す るが、ある確率で電子・ホール対を 生成できる。 シリコンの深さにほぼ一様に生成できる レーザー光量で生成数を制御できる レーザー 荷電 粒子 (但し検出器の構造によって反射吸収を受ける) 約 2 万対 ~ 3fC

5 レーザー装置 Rate ~ 1kHz Spot size ~ 3x3μ ㎡ 最小電離粒子が検出器 に入射した時と同程度 の電荷収集 ( ~ 3fC) が 得られるよう光量を調 整した。

6 測定装置(ブロック図) Delay=846ns Rate=30Hz SCTLV2

7 測定装置(全体図)

8 ストリップ検査システム構築の 方針 センサーストリップについての導通・応答性検査 をシステム化するには、以下の項目について検討 が必要である。 品質評価の指標として用いる値 最小電離粒子が通過した際と同程度の電荷収集(~ 3fC )を行 うよう、レーザーの強度を調整したうえで、パルス波の波高 を品質評価の指標とする。 レーザーの入射位置 隣接しているストリップ間( 80μm )で注目しているストリッ プの応答性を見るためには、そのストリップに対しては応答 性がよく、隣のストリップからの影響が少ない入射位置を選 択する。 検査に要する時間 既に量産体制に入っており、 1 日あたり2モジュール以上の検 査速度が要求される。

9 品質評価の指標 品質評価の指標として波高の中心値を用いる。 デジタル化された信号で波高分布を測定するために 閾値を変化させて測定する。 波高( mV ) イベント 数 閾値電圧 ( mV ) 収集効率

10 レーザー入射位置の検討 注目しているストリップ の中心から隣のストリッ プの中心までの区間に対 して、 2μm おきにレーザー を照射した。得られた閾 値曲線をエラー関数で フィットし、閾値電圧中 心値( Vt50 )を求めた。 レーザー照射 Vt50 収集効率 (%) 閾値電圧 (mV) Vt50 収集効率 (%) 閾値電圧 (mV)

11 レーザーの入射位置の検討 閾値電圧中心値 (Vt50) の推移 Strip #370 Strip #371 距離 (μm) 閾値電圧中心値 (mV)

12 本システムによる検査イメージ 768 本のストリップの応答性の良い領域(ストリップ中 心より 25μm の位置)にレーザーを入射させた場合の測 定例を以下に示した。 例えば、応答のないストリップ、応答に異常のあるス トリップについては以下の様に判断できる。

13 測定時間の検討(現在進行中) 1 日あたり 2 モジュールの両面検査を行うには、 片面あたり1時間程度で検査を終える必要がある。 閾値曲線の測定時間 現状、閾値電圧 100mV から 300mV の範囲について 100 イベントずつ統計を集め、 20mV 刻みで測定を 行った場合、 1 ストリップあたり およそ1分かか る。 768(strip) x 1(min) = 13(hour) !! 1ストリップあたり6秒以内の測定が要求さ れる ・ 現在、 30Hz でデータ収集を行っている が、 CLOAC の使い方を最適化することによ り、 数 100Hz 程度まで上げることが可能。

14 まとめと今後 センサーストリップの導通・応答性の 検査には、荷電粒子の通過を模擬した 状況での検査が不可欠である。 その為、レーザーを用いたセンサースト リップの導通・応答性検査システムを作成 中である。 現在、レーザー装置の調整、基礎デー タの収集中である。 量産体制に向けては、検査速度の向上 を図らなければならない。