マイクロ光造形法に 関する研究 電子システム工学専攻2年 稲葉研究室 山之腰 卓
研究概要 目的 実験内容 光造形法による 3次元マイクロマシン製作 He-Cd紫外線レーザを用いた実験半導体レーザを用いた実験 目的 実験内容 光造形法による 3次元マイクロマシン製作 He-Cd紫外線レーザを用いた実験半導体レーザを用いた実験 近赤外パルスレーザを用いた実験 パルス幅及びレーザ周波数、レーザスポット掃引速度に対する加工分解能の測定試験
実験方法 光硬化樹脂 スポット移動 レーザ x、z軸 駆動ステージ コントローラ 光造形装置概略図
実際の構造物 半導体レーザ 紫外線レーザ 近赤外レーザ 実験で製作した構造物
実験1 He-Cd紫外線レーザによる実験 直線幅の照射時間依存性
実験2 半導体パルスレーザによる実験 硬化幅の周波数依存性
実験3 近赤外パルスレーザによる実験 近赤外パルスレーザを用いて製作した直線硬化物
結論 紫外線による光造形法によって2次元の加工分解能8.6[µm ]が確認できた 加工分解能が高い三次元構造物を製作するためには、焦点のみを硬化させなければならない 近赤外パルスレーザを用いて太さ9.7 [µm ]の直線の硬化物の製作ができた
課題 微細な3次元構造物の製作にはエネルギーの高い光を短時間照射する事が必要である 2光子吸収による光造形法