2006.3.2 現在 5-002 電気炉 RTO 酸化炉 プラズマ CVD 電子ビーム 蒸着 シングルイオン 注入装置 DEEP ICP RIE CCP RIE 有機 アルカリ 酸 有機 無機 電子ビーム 露光装置 (S-4300) UV 露光 装置 前室 更衣室 空調機械室 用役機械室 用役室 B1F.

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現在 電気炉 RTO 酸化炉 プラズマ CVD 電子ビーム 蒸着 シングルイオン 注入装置 DEEP ICP RIE CCP RIE 有機 アルカリ 酸 有機 無機 電子ビーム 露光装置 (S-4300) UV 露光 装置 前室 更衣室 空調機械室 用役機械室 用役室 B1F 2m 超純水 S O2 Ar N2 スピンコーター (RC8) ダムウエーター 自吸式呼吸器 エア シャワー 装置配置図 レーザ顕微鏡 コンプレッサ ( 廃液回収用 ) コンプレッサ ( 各種機器用 ) 真空ポンプ 昼夜連続運転機器 ドラフト 明暗視野 顕微鏡 MZ50 レジス ト保管 庫 保管棚 マスクレスナノ構造 形成装置 ( エリオニクス ) S 光干渉式 膜厚計 薬品庫廃液保管庫 冷蔵庫 作業台 S 触針式 膜厚計 サーモバック 制御電源 :自吸式呼吸器 S :CR酸素濃度表示 :消化器 :緊急警報 :消火栓 エリプソメータ プラズマリアクタ UVO 3 クリーナー スピンコータ ( ミカサ )

現在 ICP-RIE FIB ガス保管庫 COE/NFD 事務室 アルカリフッ酸酸有機 前室 更衣室 1F 2m O 2 ボンベ Ar ボンベ N 2 ボンベ S S 薬品庫 会議室 ダムウエーター 廃液保管棚 監視モニター 酸欠警報 BOX 遠方操作盤 連動操作盤 コンプレッサ 中和装置 電子ビームリソグラ フィ (局所化学修飾装 置) ホットエンボス EVG520 スパッタ装置 (SPC350) スパッタ装置 (SPF332H) スプレーコーター EVG101 精密天秤精密天秤 消火栓 エア シャワー 装置配置図 H2ボンベ (警報) S 酸素濃度センサ 監視モニタ 昼夜連続運転機器 ドラフト 屋外窒素発生器 液化窒素供給設備 危険物一時保管庫 ボンド用アライナ ( ナノインプリント ) EVG620 アニール炉 S :自吸式呼吸器 S :CR酸素濃度表示 :消化器 :緊急警報 :消火栓 プラズマ 表面処理 装置 EVG810 ブラシ付メガソニック洗浄装置 EVG301 地震監視システム 測長顕微鏡測長顕微鏡 デジタル マイクロスコープ 超精密天秤超精密天秤 定温 乾燥機 デシケータ エキシマ 照射装置 Miniscope 及イオンコータ

現在 204 ナノ 計測ルーム 電気化学 プロセスルーム 有機 アルカリ フッ酸 アルカリ 精密天秤 超純水製造装置 走査プローブ 顕微鏡 酸 2F2F 2m 流し 多目的 実験台 蛍光観察装置 ダムウエーター 有機 アルカリ 酸 給湯器 流し グロー放電装置 磁気工学測定装置 FE-SEM 電気化学 プロセスルーム 203 緊急シャワー 装置配置図 電気特性計測 ダイシングソー ボンダ、ダイボンダー AFM装置 共通薬品庫 汎用SEM WYCO 量子干渉型磁束計 CVメータ 半導体パラメータ アナライザー プローバ SEM前処理装置 流し :自吸式呼吸器 S :CR酸素濃度表示 :消化器 :緊急警報 :消火栓 ESCA 消耗品棚 CMP - 2 テンコール 薬品保管 冷蔵庫 DMFC 関連装置 薬品庫 分光光 度計 メッキ装 置 微分干渉 顕微鏡 冷蔵庫 薄膜物性 評価装置 恒温プローバ 超精密天秤 メガソニック 洗浄槽 202 CMP 研磨システム 純水生成 装置 A B C CMP-1 卓上用 多目的実験 スペース 人材育成電 解メッキ装置 CCD 顕微鏡

現在 変更履歴 06.3.2の変更 1F-CR…… エキシマ照射装置、卓上 SEM(Miniscope) 及びイオンコータを追加。プラズマ ICP を ICP-RIE に名称改 正。 2F-202…… メッキ装置関連機器を電解メッキ装置(人材育成)に変更。 CCD 顕微鏡を表示。分光光度計を追加。