フォトニクス研究開発支援センターのご案内 機器利用講習会 超微細光学素子を作る　 Mar 14-15, '05 担　当 フォトニクス研究開発支援センターのご案内 情報電子部　電子・光材料系　フォトニクス分野 兼フォトニクス研究開発支援センター長　主任研究員　森脇耕介 電子ビーム描画装置によるレジストパターン作製 情報電子部　電子・光材料系　フォトニクス分野　研究員　佐藤和郎 NLDプラズマエッチング装置によるパターン転写 情報電子部　電子・光材料系　フォトニクス分野　研究員　福田宏輝 次第表示

フォトニクス研究開発支援センター 設置経緯と目的 大阪府地域結集型共同研究事業（地域COE事業） 　　「テラ光情報基盤技術開発」　　H9.11〜H14.11 　　　阪大，阪府大，阪市大，産総研関西，府産技研，阪市工研，民間企業 微小光学素子と応用システムの研究 サブ波長構造の新奇な機能の光学素子開発（フェーズ I・II） TRI内に「先端光ファクトリ」コア研究室 サブ波長構造の試作・評価装置類を設置 研究事業に引き続き，企業支援事業（フェーズ III） 先端的加工装置の開放／成果・技術の普及 Ｈ９年から５年間，テラ光情報基盤技術開発と銘打った大阪府地域結集型共同研究自供が展開され，国公立大学，産総研，公設試，民間企業の参加で実施された． 中心的な内容は．微小光学素子の作製とその応用システムを構築する，というところにポイントが」置かれました 導入はＨ１０〜１２年の時期である

設置機器（加工） 電子ビーム描画装置 NLDプラズマ エッチング装置 電子ビーム蒸着装置 両面マスクアライナ 多層膜スパッタ装置 クリーンルーム（Class 10000） 電子ビーム蒸着装置 ULVAC 電子ビーム描画装置 日本電子 JBX-5000SI 両面マスクアライナ カールズース 多層膜スパッタ装置 理研社 両面マスクアライナ，レーザビーム描画装置の用途，特徴は？ NLDプラズマ　エッチング装置 ULVAC NLD-800 レーザビーム描画装置 日本科学エンジニアリング

設置機器（形状評価） 薄膜光学定数測定装置 SPM顕微鏡 走査型 電子顕微鏡 白色光干渉式表面粗さ計 光干渉式 膜厚測定装置 金属顕微鏡 クリーンルーム（Class 10000） 薄膜光学定数測定装置 大塚科学 SPM顕微鏡 ヤマト科学 　走査型　電子顕微鏡 日本電子 白色光干渉式表面粗さ計 機能の評価はできない． サブミクロンのスケールに対応できない. AFM，SDSEMなど，所内の開放機器で対応可． Zygo NewView5000 　光干渉式　膜厚測定装置 金属顕微鏡

主要設備一覧 装 置 名 メーカー 形 式 仕 様 電子ビーム描画装置 日本電子(株) JBX-5000SI 装　置　名 メーカー 形　式 仕　　様 電子ビーム描画装置 日本電子(株) JBX-5000SI 加速電圧25/50kV，線幅8nm〜1000nm，ベクトルスキャン，つなぎ精度40nm プラズマ 　エッチング装置 ULVAC(株) NLD-800 ガスCF4,Cl,C4F8，CH2F2対応，アンテナパワー2kW，バイアスパワー1kW 多層膜スパッタ装置 理研社 酸化物，窒化物，金属薄膜対応，４インチ基板，1kWrf 電子ビーム蒸着装置 MUE-ECO-EB ３連電子銃，膜厚制御0.1nm，真空到達度6.6×10-4Pa，基板加熱500℃，酸化膜可能 両面マスクアライナ カールズース社 MA6-LH350 g/i線対応，露光面積最大４インチ，合わせ精度1μm レーザビーム描画装置 日本科学エンジニアリング(株) DDB-3 He-Cdレーザ光源（442nm），試料100mm□，描画速度1mm/s，最小線幅1μm 走査型電子顕微鏡 JSM-5310 加速電圧 5〜30kV，10万倍． 白色光干渉式　　　　　　表面粗さ計 Zygo社 NewView-5000 高さ分解能1nm以下，水平1μm程度まで．要表面反射． 薄膜光学定数測定装置 大塚電子(株) 薄膜の反射率，透過率の波長依存性．屈折率，消衰係数，膜厚の計測 その他，光学顕微鏡，走査型プローブ顕微鏡(SPM)，光干渉式膜厚計，スピナー，クリーンベンチ． クリーンルーム（クラス10000） 加工と形状評価． 機能の評価は，なし．

フォトニクスセンターのご利用 「機器使用」 「受託研究制度」 技術相談（無料） ご利用者 担当者 機器使用 依頼加工（使用料） 担当者 使用料前納，利用者が操作 実質的な運用は「依頼加工」・「依頼試験」 「受託研究制度」 比較的長期，研究的性格 府産技研 技術相談（無料） フォトニクスセンター 建前として，利用者が操作する．使用料は前納． 実際の運用は不可能．時間も，やってみないとわからない．条件出しが必要であることが多い． 事前の打ち合わせで，どの装置を何時間使うかを予測して，使用料を納得した上で実施． 加工する形状は，利用者が用意してほしい． ご利用者 担当者 機器使用　　　 依頼加工（使用料） アイデア 形状 設計 担当者 受託研究

装置使用料一覧 番号 項 目 単位 使用料(円) 備 考 E1001 Zygo干渉式表面粗さ計 １時間 4,000 BMP画像可． 項　　目 単位 使用料(円) 備　考 E1001 Zygo干渉式表面粗さ計 １時間 4,000 BMP画像可． E1002 レーザビーム描画装置 9,000 E1003 薄膜光学定数測定装置 1,100 E1004 金属顕微鏡 2,700 E1005 多層膜スパッタ装置 半日 13,400 E1006 電子ビーム蒸着装置 5,800 E1007 NLDエッチング装置 7,900 E1008 両面マスクアライナー 15,300 E1009 電子顕微鏡（ＳＥＭ） 13,000 ポラロイド撮影可．BMP画像可． E1010 光干渉式膜厚測定装置 900 E1011 EB描画装置（４時間まで） 16,400 準備作業，標準的薬品（レジスト，現像液）類含む． 約20万円/24H連続 E1012 EB描画装置（４時間超過分） 7,300 E1013 SPM顕微鏡 5,200 薬品は標準的な品物．特殊なものは持ち込む．その場合，クリーンルームへの汚染がないように． SiO2基板（１インチ角）はあるが．表向きは出さない．応相談．

加工の対応範囲 加工対象 加工方法 使用可能レジスト 加工寸法 設計 加工精度について 加工対象 Si , SiO2 , 金属薄膜 加工方法 高分子レジストのパターンニング プラズマドライエッチングによる形状転写 レジスト バイナリ，マルチレベル（別表参照） 試料寸法 EB描画装置に格納できる基板寸法（ホルダ仕様） ・１inch□,1mm厚×４ ・２inch○,1mm厚×２ ・１inch□ と２inch○各１, 1mm または 5mm厚 ・３inch○,1mm厚×１ ・４inch○,1mm厚×１ ・５inch □,フォトマスク作製用 エッチング装置 ・80mm ○, ５mm厚に収まるもの 設　計 依頼者持ち込み．光学シミュレーションは対応なし． 加工精度 Line & Space の線幅　>100 nm（目安） SEMでの観察・計測 加工対象 フラット基板　　Si，SiO2 加工方法 高分子レジストのパターンニング プラズマドライエッチングによる転写 使用可能レジスト バイナリ・マルチレベル　レジスト 加工寸法 EB描画可能な基板寸法 [１inch□,1mm厚]×４，[２inch○,1mm厚]×２ 平面上 >100nm，描画時間1mm角xx時間 設計 持ち込み．シミュレーションは対応しない 加工精度について SEMでの観察・計測 はっきりと線引きはできない．事前の相談．

ご承諾いただきたいこと 「機器使用」 「使用料」算定について 使用予約について 事前打ち合わせを念入りに（来所，メール，電話） 形状や材質によってはご使用いただけないこともあります． お客様が主体で実験を行って頂きます． 「依頼加工」もありますが，あくまで代行です． 「使用料」算定について 維持に必要な光熱費，消耗品費に充てる費用です． 装置によっては，厳密な時間算定が困難 マシンタイムではなく，機器の占有時間＋準備に要する作業時間 事前の作業などをお手伝いした場合，人件費相当分も算定いたします． 仕様どおりの納品・実験の成功への報酬・保証ではありません 使用予約について 予約はお早めに． 特に事前準備を依頼される場合はお早めに． 実験計画は寸法やレイアウトを詳細に． 不慮の故障は，代替日でご容赦を．

お問い合わせ 技術相談 加工／試験／受託研究の具体的打ち合わせ 総合案内「技術支援センター」 24時間インターネット技術相談 TEL 0725-51-2525, FAX 0725-51-2509 24時間インターネット技術相談 所公式ＨＰ（http://tri-osaka.jp/）内，http://www.tri.pref.osaka.jp/tri24c.html 加工／試験／受託研究の具体的打ち合わせ フォトニクス研究開発支援センター 森脇 TEL: 0725-51-2611，mail: moriwaki@tri.pref.osaka.jp