単色X線発生装置の製作 副島 裕一.

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単色X線発生装置の製作 副島 裕一

目次 1.目的 2.原理 3.1次X線 4.各種ターゲットのスペクトル 5.純度増加策 6.まとめ

1.目的  エネルギー較正に役立つポータブルな単色X線発生装置の製作

2.原理 ・特性X線(K-X線)を利用 ・不要成分(1次X線とそのトムソン散乱)を  除去して単色に近づける

Feをターゲットに用いて直接見える1次X線を防ぐコリメーターの効果を確かめた コリメーター無

コリメーター有

3.1次X線 Amptek社 Cool-X

Heating Phase(約45秒)   Taの特性X線と制動放射  Cooling Phase(約65秒)   Cuの特性X線と制動放射

Ge検出器によるスペクトルの測定(約5周期) μ-picによるCount rateの測定 強度は一定ではないので 一定の強度が必要な測定には向かない 1次X線として使用した場合、得られる実用的なK-X線は10keV前後まで

4.各種ターゲットの特性X線 ターゲットのZが小さいと性能は落ちる ・トムソン散乱はZの依存性で増加 ・光電吸収は で増加 ・光電吸収は  で増加 ・蛍光収量はZが大きいほど大きい Zの減少に伴い特性X線強度は減少し, トムソン散乱の割合が増える ターゲットのZが小さいと性能は落ちる

ターゲットにFe,Cr,Tiを用いて   が約1000countになるまで測定 測定にはGe半導体検出器とネットワークMCAを使用 Z   (keV) 測定時間 Ti 22 4.508 4.931 約14500秒 Cr 24 5.405 5.946 約10000秒 Fe 26 6.398 7.057 約4500秒

Ge検出器で4000秒測定 Zの小さいターゲットとしてCl(Z=17)とAl(13)のスペクトルを測定(Clは塩化ビニリデン(        )のラップフィルムを使用)   →Ti(22)以下は実用的でない     (ClはTiの 1/20) Zが大きいターゲットについては今回は測定していないがNi(28),Cu(29),Zn(30)などは安価でFe程度の性能が得られるのでは   (光電吸収断面積,蛍光収量などを比較した)

5.純度増加策 不要成分の割合を減らすために2次X線にフィルターをかける 理想的には と の間に吸収端を持つ物質 理想的には  と  の間に吸収端を持つ物質     吸収端を利用して  を選択的に除去   低エネルギーのX線を除去

今回はTiのターゲットにTiのフィルターを用いて輝線の両側のX線を減らす効果を確かめた

ターゲット Ti フィルター Ti 10μm(   強度が6割)    が約1000countになるまで測定

6.まとめ 今回得られた実用的なターゲットとエネルギー Z (keV) Ti 22 4.508 4.931 Cr 24 5.405 5.946 Fe 26 6.398 7.057

その他使えそうなターゲットとエネルギー Z (keV) V 23 4.952 5.417 Co 27 6.930 7.649 Ni 28 7.478   8.265 Cu 29 8.048 8.905 Zn 30 8.639 9.572

欠点    ・一定の強度は得られない    ・Cool-Xの寿命(連続使用だと200時間) 課題    ・その他ターゲットの性能評価    ・   を除去するフィルターの性能評価

終わり