電磁波アンジュレータの開発 Phase-I 長軸安定共振器による高収率レーザーコンプトンγ線の発生。 γ線ＣＴ Phase-II 干渉性を利用した、高輝度Ｘ線アンジュレータ光の発生。 安価なＸ線マイクロビームの発生。 Phase-III テーブルトップＸ線源の開発。 半導体リソグラフィ
想定される産業利用 高エネルギーγ線ＣＴ 小型で安価なＸ線源 高輝度・小型リソグラフィ用Ｘ線源 重量物の非破壊検査等 エネルギー可変Ｘ線マイクロビーム マイクロビームＣＴ 微細加工 タンパク質、創薬、バイオ 高輝度・小型リソグラフィ用Ｘ線源
産総研で開発 したγ線ＣＴ技術 産総研で開発したγ線ＣＴ技術
プレス発表データ 2月26日 日本工業新聞 2面 日刊工業新聞 6面 日経産業新聞 12面 日本工業新聞 2面 CT技術、世界初の実用化 レーザーコンプトンγ線使う 産総研 原子炉部品内部など ３次元撮影可能に 日刊工業新聞 6面 航空機などの大型工業製品 非破壊で３次元撮影 産総研 ガンマ線利用CT技術 日経産業新聞 12面 ガンマ線使うCT 産総研、非破壊検査に威力
必要なγ線源 強度が106 photons/sec程度のγ線ビーム エネルギー可変： 数100keV～数10MeV 高指向性(発散角が放射光程度～数mrad) 数%程度以下のエネルギー広がり
Phase-I、および、Phase-II γ線、Ｘ線発生装置 電子蓄積リング 高輝度Ｘ・γ線 (干渉性) 電子 利用 超高真空封じきり共振器 γ線ＣＴへの利用 Ｘ線マイクロビームへの利用 遠赤外レーザー
Phase-III Ｘ線アンジュレータ光の発生 テーブルトップＸ線源の開発 半導体リソグラフィ 電子 ファブリ－ペロー共振器 レーザー 小型電子加速器 （１ｍ程度) レーザー 電子冷却装置 Ｘ線アンジュレータ光の発生 テーブルトップＸ線源の開発 半導体リソグラフィ
テーブルトップＸ線源の性能 『例として』 532nmの波長のレーザー 2keVのＸ線 8MeVの電子 532nmの波長のレーザー 電子エネルギーを変えることで、数100eV～10keV（数100μm～0.1nm）において、エネルギー可変の単色Ｘ線が得られる。 高指向性を有するため、リソグラフィーに最適。 デブリ、中性子の発生が全くない『クリーン』な線源 2keVのＸ線
産業創生の可能性 重量物工業製品の精密非破壊検査事業 創薬、バイオ等の起業 半導体リソグラフィの請負 鉄筋コンクリート、船舶、航空機、原子炉、ガラス固化体（放射性廃棄物)などの検査 創薬、バイオ等の起業 コストパフォーマンスのよいＸ線マイクロビーム 半導体リソグラフィの請負 波長可変性、高指向性を有するＸ線源