機器利用講習会 「超微細光学素子を作る」 大阪府立産業技術総合研究所 フォトニクス開発支援センター （1日目） 電子ビーム描画装置による回折格子のレジストパターン作製実習 大阪府立産業技術総合研究所 フォトニクス開発支援センター
本日の予定 簡単な電子ビーム描画装置及び本日行う作業の説明 石英基板にレジスト塗布およびEB装置に導入 お昼休み（真空引き待ち） 現像作業 作製した素子のSEM観察 ＊青字はクリーンルーム内で作業
電子ビーム描画装置 JBX-5000SI 電子線源 LaB6 加速電圧 25KV or 50KV 試料サイズ ホルダーによる 試料サイズ ホルダーによる 最小ビーム径 8nm つなぎ精度 60nm/40nm 重ね合わせ精度 60nm/40nm 描画方式 ベクトルスキャン 日本電子株式会社製
本日作製する素子 基板：1インチ角（25mm×25mm）石英 レジスト：NEB－22A2 パターン：200nm&200nm line&space 200nm L&S 200周期 5mm 20μm 5μC/cm2 → 9μC/cm2 80μm
レジストの種類と選択 デジタル型レジスト アナログ型レジスト 名称 P/N 特徴 ZEP520 ポジ 高解像度、低感度、安定 ZEP7000 低解像度、高感度、安定 NEB22 ネガ 高解像度、高感度、不安定 アナログ型レジスト 名称 P/N 特徴 OEBR ポジ 低感度、安定、実績豊富 ZEP2000 やや高感度、安定、厚塗り可能
ポジ型レジストとネガ型レジスト 現像 EB 露光 ポジ ネガ 露光 EB 現像
実際のプロセス（基板洗浄済み） OAPおよび レジスト塗布 エスペーサ水洗 プリベーク PEB エスペーサ塗布および乾燥 現像 電子線描画 完成
微細加工フローチャート パターンの準備 レジストの選択 描画時間計算 必要ならばエスペーサー塗布 基板の洗浄 レジスト塗布 EB装置の調整 現像 必要ならばエッチング 性能評価
パターンファイル（j01ファイル）について 目的のパターンを所定のフォーマットで作成する必要があります。フォーマットにはいくつか種類がありますが、今回はテキスト形式でパターンを作成できるj01フォーマットを用います。作成したファイルは、EB装置が理解できる形に変換する必要があります。 今回用いるj01ファイル
パターンファイルの変換とは 作成したパターンファイルをEBが理解できる形式に変換する必要があります。時間があれば作業を行います。 j01、x01、GDSⅡパターンファイル convプログラム j51ファイル pchk6プログラム パターンチェック preadプログラム スキャナーデータ
ジョブデックファイル、スケジュールファイルとは パターンを基板上のどの位置に描画するか等の情報を記述するものがjdf、sdfです。これらのファイルをコンパイルすることにより、最終的にマガジンファイル（実行）ファイルを作成します。 ジョブデックファイル cmplプログラム レイヤーファイル スケジュールファイル ＋ schdプログラム マガジンファイル
ステージ座標について (-30500, 30500) (30500, 30500) (0, 0) (-30500, -30500) (30500, -30500)