下水処理場におけるノニルフェノール関 連物質の LC/MS を用いた分析 永光 弘明 * 加藤 康伸 * 熊谷 哲 ** 中野 武 *** 永光 弘明 * 加藤 康伸 * 熊谷 哲 ** 中野 武 *** * 姫路工業大学工学部 * 姫路工業大学工学部 ** 姫路工業大学環境人間学部 ** 姫路工業大学環境人間学部 *** 兵庫県立公害研究所 *** 兵庫県立公害研究所
緒言 〇我々は瀬戸内海の播磨灘においてノニルフェノール（ NP ）のム ラサキイガイへの濃縮や海底底質の堆積を調査し、高い濃縮を 確認した。 〇 NP に関しての河川水中での濃度や下水処理場放流水からの NP 濃 度は低い値であり、播磨灘における NP の高い濃縮は下水処理場 放流水やその他の排出源から自然水中に流入したノニルフェ ノールエトキシレート（ NPEO) の分解生成による寄与が大きい と考えられる。 〇 NPEO の自然水中における分解生成に関しての報告はまだ少ない 為、 今回下水処理場における NPEO から NP への生成過程の調査と分 解過程を検討する為、流入下水、好気性汚泥処理槽、放流を採 取し分析した。
２０００年ＡＰ / ＡＰＥ 国内販売量
アルキルフェノールの生成過程
下水採取地 下水処理過程
分析手法
測定条件 NP GC/MS-MS 条件 測定機器 : Finnigun GCQ Column : J&WRtx5MS 30m 0.25mmid Injection volume: 2μL Injection Temp: 300 ℃ GC Temp program:60 ℃ (1min) -10 ℃ /min-300 ℃ (10min) Precursor ion m/z=163 Product ion m/z=135 回収率： 水・底質 １００％ 定量下限：水 0.015μg/L 底質 0.015μg/g (wet) NPEO LC/MS-SIM 条件 測定機器 : Finnigun LCQ HPLC HEWLETTPACARD 1100 Column:C30-VG-5 150mm 4.5mm i.d Injection volume: 20μL Solvent: 85%MeOH : 15%H 2 O (Containing 0.05mM ammonium acetate) Flow rate :0.50ml/min (40min) Column Temp: 40 ℃ SIM Monitor ion NPEO2-NPEO9 m/z = 回収率：水 NPEO2-NPEO6 80% NPEO7-NPEO9 40%-50% 定量下限：水 0.06μg/L
下水中の NP のスペクトルとクロマトグ ラム
下水中の NPEO のクロマトグラム
下水処理過程での ノニルフェノール関連物質の濃度変 化
下水処理過程での ＮＰエトキシレート の濃度変化 下水処理過程での ＮＰエトキシレート の濃度変化
下水処理過程におけるＮＰＥＯｎの存在 変化
結果と考察 1. NP に関しては、流入下水から放流下水までの下水処理 過程において 95 パーセント以上の減少が観察された。 2. NPEO ９から NPEO ４に関しては好気性汚泥処理を受 けることにより大きな減少が起こるが、 NPEO ３から NPEO ２は好気性処理により微量の増加が確認された。 3. 過去の報告による NPEO から NP への分解生成は嫌気性 処理を経て起こるのではなく、今回好気性処理のみによ る下水処理場でも確認された。また自然水中における NP への分解生成が懸念されるのことからも下水処理場もし くは工場廃水からの NP のみの測定ではなく NPEO を含め た調査が今後必要である。